內政部「身分證明文件美學設計」座談會,歡迎民眾踴躍參加

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內政部訂於106年10月20日(星期五)上午10點至12點,在華山文創園區西2館(雜學校展覽D區)舉辦「身分證明文件美學設計」座談會,免費入場;歡迎民眾踴躍參噢,活動相關資訊可上「內政部戶政司全球資訊網」(http://www.ris.gov.tw/zh_TW/home)或洽yu@netizen.productions。

發文單位:行政處

發佈日期:2017-10-17

更新日期:2017-10-17 11:54

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